Создан первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров

В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Это важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства.                                    



Российский фотолитограф создан резидентом ОЭЗ "Технополис Москва" при партнерстве с белорусским заводом. Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер - мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.